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磁控溅射镀膜
磁控溅射镀高纯铌
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磁控溅射镀高纯铌

控溅射镀高纯铌是一种常见的表面处理技术,应用广泛且有着优良的性能。在实际应用中,需要根据具体实际需求来优化工艺参数,以获得高质量的薄膜。先进院科技磁控溅射镀高纯铌,可按需求定制各种规格;欢迎咨询。
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磁控溅射镀高纯铌(Nb)是一种利用磁控溅射技术在基材表面沉积高纯度铌薄膜的过程。铌(Nb)因其特殊的物理和化学性能,在多个领域有着广泛的应用,尤其是在超导材料、航空航天、电子器件等领域。通过磁控溅射技术,可以制备出具有优异性能的铌薄膜。

高纯铌薄膜的特点

  1. 高纯度:通过磁控溅射技术可以得到纯度极高的铌薄膜,这对于需要准确控制材料特性的应用至关重要。
  2. 均匀性:沉积的薄膜具有良好的均匀性和致密性。
  3. 超导性:铌是常用的超导材料之一,其超导临界温度相对较高。
  4. 耐腐蚀性:铌具有良好的耐腐蚀性能。
  5. 生物相容性:铌具有良好的生物相容性,适合用于医疗设备。

磁控溅射镀高纯铌的过程

磁控溅射镀高纯铌的基本过程包括以下几个步骤:

  1. 准备靶材:选用高纯度的铌靶材,通常纯度要求在99.95%以上。
  2. 创建真空环境:在磁控溅射装置的腔体内建立高真空环境,以确保沉积过程中的纯净度。
  3. 引入溅射气体:通入惰性气体(通常是氩气),在靶材周围产生等离子体。
  4. 应用磁场:在靶材表面附近设置磁场,以增加等离子体密度,提高溅射效率。
  5. 溅射沉积:等离子体中的带电粒子撞击铌靶材表面,使铌原子脱离并沉积到基材上。
  6. 控制薄膜厚度:通过调整溅射时间和电流密度等参数来控制薄膜的厚度。

高纯铌薄膜的应用

  1. 超导材料:铌是重要的超导材料之一,用于制造超导电缆、超导磁体等。例如,在铜腔内壁镀铌超导腔具有对直流磁场不敏感、热稳定性高等优点。
  2. 电子器件:作为导电层或介电层用于集成电路、传感器等。
  3. 航空航天:用于制造耐高温、耐腐蚀的零部件。
  4. 医疗器械:由于铌的生物相容性,可用于制造植入物等。
  5. 光学器件:用于制造光学镜片、激光器等。

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