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磁控溅射镀高纯铌(Nb)是一种利用磁控溅射技术在基材表面沉积高纯度铌薄膜的过程。铌(Nb)因其特殊的物理和化学性能,在多个领域有着广泛的应用,尤其是在超导材料、航空航天、电子器件等领域。通过磁控溅射技术,可以制备出具有优异性能的铌薄膜。
磁控溅射镀高纯铌的基本过程包括以下几个步骤:
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