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磁控溅射镀膜
磁控溅射镀高纯镥
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磁控溅射镀高纯镥

磁控溅射镀膜是一种通过物理方法在基底表面上生成薄膜的技术。它利用磁控辉光放电产生的等离子体,在高真空环境下将镥(Lu)目标材料溅射到基底表面,形成一层均匀、致密、具有较高纯度的膜层。 先进院科技磁控溅射镀高纯镥,可按需定制各种规格;欢迎咨询。
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磁控溅射镀高纯镥是一种先进的物理气相沉积(PVD)技术,利用磁控溅射原理,在真空环境下将高纯度的镥(Lu)靶材原子溅射并沉积到基材表面,形成一层均匀致密的镥薄膜。

一、技术原理

磁控溅射:磁控溅射属于辉光放电范畴的技术,利用阴极溅射原理进行镀膜。在真空环境中,惰性气体(通常是氩气)被引入反应腔内。当高压电场作用于气体时,氩气分子被电离形成等离子体。等离子体中的高能氩离子在电场的加速下撞击镥靶材表面,导致靶材原子溅射出来。溅射出的镥原子随后沉积在基材上,逐渐形成所需的薄膜。

磁场的作用:通过在靶材附近施加正交电磁场,可以增加电子的有效路径长度,从而提高等离子体的密度和溅射效率。正交电磁场的引入使得电子在靶材附近做摆线运动,增加了它们与气体分子碰撞的概率,从而提高了溅射过程的效率。

二、高纯镥的特性

镥(Lu)是一种稀土金属,在自然界中较为稀有。其特性如下:

  • 物理特性:纯镥是一种银白色金属,具有良好的延展性和塑性。它的熔点相对较高,约为1650°C,密度较大(约为9.84 g/cm³)。
  • 化学特性:镥化学性质较活泼,容易与许多非金属元素形成稳定的化合物。虽然在空气中相对稳定,但在高温下会与氧气反应生成氧化物。
  • 应用特性:镥因其特殊性质在光学、电子、医疗领域具有重要应用。

三、应用领域

磁控溅射镀高纯镥技术在多个领域中具有广泛应用:

  • 光学领域:高纯镥薄膜可用作光学镜片或滤光片的材料,特别是在激光技术中,镥薄膜的引入有助于改善光学性能。
  • 电子领域:在半导体器件、微电子领域,镥薄膜可作为特殊材料,用于增强器件的性能。例如,作为掺杂源或特殊电极材料,以达到优化器件电学性能的目的。
  • 医疗领域:镥被用于医用材料,如镥177被用于治疗某些癌症的放射性同位素载体。
  • 磁性材料:自然界中的镥分为多种同位素,有的具有磁性,因此镧系元素中的一些镥同位素可用于制备特殊磁性材料。

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