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磁控溅射镀高纯镥是一种先进的物理气相沉积(PVD)技术,利用磁控溅射原理,在真空环境下将高纯度的镥(Lu)靶材原子溅射并沉积到基材表面,形成一层均匀致密的镥薄膜。
磁控溅射:磁控溅射属于辉光放电范畴的技术,利用阴极溅射原理进行镀膜。在真空环境中,惰性气体(通常是氩气)被引入反应腔内。当高压电场作用于气体时,氩气分子被电离形成等离子体。等离子体中的高能氩离子在电场的加速下撞击镥靶材表面,导致靶材原子溅射出来。溅射出的镥原子随后沉积在基材上,逐渐形成所需的薄膜。
磁场的作用:通过在靶材附近施加正交电磁场,可以增加电子的有效路径长度,从而提高等离子体的密度和溅射效率。正交电磁场的引入使得电子在靶材附近做摆线运动,增加了它们与气体分子碰撞的概率,从而提高了溅射过程的效率。
镥(Lu)是一种稀土金属,在自然界中较为稀有。其特性如下:
磁控溅射镀高纯镥技术在多个领域中具有广泛应用:
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