定制热线:0755-22277778
电话:0755-22277778
手机:13826586185(段先生)
传真:0755-22277776
邮箱:duanlian@xianjinyuan.cn
0755-22277778
磁控溅射镀高纯铪是一种先进的物理气相沉积(PVD)技术,它通过特定的工艺过程,在基材表面形成一层均匀且致密的高纯铪薄膜。
磁控溅射镀高纯铪的核心在于利用溅射效应将高纯度的铪靶材原子转移到基材表面。在真空腔体中,引入惰性气体(通常是氩气)并电离形成等离子体,高能氩离子在电场的加速下撞击铪靶材表面,导致靶材原子被溅射出来。这些溅射出的铪原子随后沉积在基材上,形成所需的薄膜。磁场在溅射区域中起到关键作用,通过增加电子的路径长度和滞留时间,增强等离子体的密度和稳定性,从而提高溅射效率和薄膜质量。
铪是一种具有高熔点(2233℃)、高密度(13.31g/cm³)和低膨胀系数(25℃时为5.9μm·m^-1·K^-1)的金属。它具有良好的导电性(20℃时电阻率为331nΩ·m)和热导率(23.0W·m^-1·K^-1),同时具备较强的耐腐蚀性。这些特性使得高纯铪在多个领域具有广泛的应用潜力。
磁控溅射镀高纯铪技术广泛应用于多个领域,包括但不限于:
磁控溅射镀高纯铪技术具有以下几个显著的工艺优势:
先进院(深圳)科技有限公司, © 2021 www.leird.cn. All rights reserved 粤ICP备2021051947号-1 © 2021 www.xianjinyuan.cn. All rights reserved 粤ICP备2021051947号-2