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磁控溅射镀钴铁硼是一种先进的物理气相沉积(PVD)技术,利用磁控溅射原理,在基材表面沉积钴铁硼三元合金薄膜。
磁控溅射镀钴铁硼的技术原理主要涉及到以下步骤:
钴铁硼三元合金具有独特的磁学和机械性能,如高硬度、高耐磨性、良好的磁响应等。这些特性使得钴铁硼薄膜在多个领域有广泛的应用。
磁控溅射镀钴铁硼技术在以下领域具有广泛的应用:
磁控溅射镀钴铁硼具有以下工艺优势:
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