导电屏蔽膜是为了防止高压场强对元件的干扰。导电屏蔽膜的设计原理是用屏蔽体来尽量减小干扰源和感受器之间的分布电容，从而减小干扰源对感受器的影响。导电屏蔽膜材料是各种用在热源和散热器之间的，通过排除热源和散热器之间的空气，使得电子设备的热量分散更均匀，加快散热效率的材料。一般各种导热界面材料需要具备好的导热系数和表面润湿性。
一、透明导电薄膜的种类有很多，但具有实际应用价值的还是氧化物膜占主导地位，例如
氧化铟锡薄膜（Indium-Tin-Oxide，简称为ITO薄膜），ITO透明导电薄膜是用物理或化学的方法在基体表面上沉积得到的，基体材料一般采用超薄玻璃，故又称之为ITO透明导电薄膜玻璃。
ITO透明导电薄膜玻璃是国际上70年代初研制成功的一种新型材料，属信息产业领域广泛使用的电气、电子玻璃家族中的一员，在信息产业中有着重要的地位。
透明导电薄膜玻璃作为平面显示器行业的上游产品，其应用面极广，不但是LCD（液晶显示器）中的关键组件，还可在其它高阶平面显示器中作为透明玻璃电极，并与民用消费产品（诸如建材、汽车、电视等）息息相关，其工艺更可进一步延伸为市场所需的任何导电玻璃的生产。
二、透明导电薄膜具有以下特性：
1、 导电性能好，电阻率可达10－4Ω﹒cm；
2、 硬度高、耐磨、耐化学腐蚀；
3、 加工性能好；
4、 可见光透过率高，可达85％以上；
5、 对紫外线具有良好的吸收性，吸收率不小于85％；
6、 对红外线具有良好的反射性，反射率不小于80％；
7、 对微波具有衰减性，衰减率不小于85％。PART 02 透明导电薄膜玻璃的生产/PRODUCTION
三、生产工艺简介
ITO透明导电薄膜玻璃的生产有三个必备条件，即：镀膜设备、ITO靶材和透明超薄玻璃（0.4－1.3mm）。ITO透明导电薄膜制备是工艺的核心技术，它可以采用多种方法，主要有有
磁控溅射法（直流磁控溅射和射频磁控溅射）、真空蒸发法（电阻加热或电于束加热）、浸渍法、化学气相沉积法、喷涂法等5种工艺。目前采用较广的是直流磁控溅射法，用该工艺进行连续镀ITO膜层，具有膜层厚度均匀、易控制、膜重复性好、稳定、适干连续生产、可镀大面积、基片和靶相互位置可按理想设计任意放置、可在低温下制取致密的薄膜层、可采用合金靶反应溅射、也可采用氧化靶直接溅射等诸多优点。该工艺适用干大规模工业化生产，ITO透明导电薄膜玻璃质量好，规格品种多，耗能低。
首先备好规定厚度尺寸的（0.4－1.3mm）超薄玻璃片，预处理经去离于水洗、超声波洁净，进入真空室后，先进行SiO2镀制，然后进入ITO镀膜室镀制ITO膜，经加热固化退火后获得成品。ITO导电膜玻璃全工艺过程均在高真空状态下洁净无尘通入Ar（氩）和O2（氧）气体，经过磁控溅射作用，在玻璃基片表面沉积氧化钢锡薄膜及加热退火后而制成。
