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Plating other precious metal films
PI nickel plated copper plated film
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PI nickel plated copper plated film


先进院科技PI薄膜镀镍镀铜是一种结合了PI薄膜优异的物理性能和镍铜镀层导电性能的高级材料处理技术。它广泛应用于高性能电子和微电子领域,对于实现小型化、高密度和高可靠性的电子产品至关重要。
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PI 镀镍镀铜膜是一种独特的复合薄膜材料。其表面镍铜镀层均匀、细致,呈现出金属光泽。该膜具有 PI 薄膜出色的耐高温、耐化学腐蚀以及良好的机械性能,同时镀镍层增强了膜的耐磨损和耐腐蚀能力,镀铜层则赋予了优异的导电性。在电子、电气等领域应用广泛,能显著提升产品的稳定性和可靠性,是高性能材料的理想选择。

PI镀镍镀铜膜
产品特性

  1. 耐高低温性能:PI膜本身具有出色的耐高低温性能,其工作温度范围广泛,可在-200°C到300°C(甚至更宽的温度范围)内稳定使用。镀镍或镀铜后,这种特性得以保留,使得PI镀镍镀铜膜在恶劣环境下仍能保持稳定的性能。

  2. 导电性能:铜是优良的导体,镀覆在PI膜表面后,能够显著提升材料的导电性能。而镍虽然导电性不如铜,但在某些应用中,其抗腐蚀性和稳定性更为重要。镀镍层还可以作为铜层的保护层,提高整体的耐腐蚀性和耐磨性。

  3. 电磁屏蔽性能:镍和铜镀层在高频电磁场中都能形成一定的屏蔽效果,防止干扰信号的传播和外界电磁辐射的干扰。这对于需要电磁屏蔽的电子设备尤为重要。

  4. 化学稳定性:PI膜具有耐腐蚀和耐化学品侵蚀的能力,镀镍或镀铜后,这种特性进一步增强,使得PI镀镍镀铜膜能够在恶劣的化学环境中保持稳定。

  5. 机械性能和绝缘性能:PI膜本身具有较高的抗张强度和耐磨性,能够承受较大的机械应力而不易破裂。同时,它还具备良好的绝缘性能,可以有效地隔离电流,防止电路短路和漏电现象的发生。镀镍或镀铜后,这些性能在一定程度上得到保留,但具体性能可能会受到镀层厚度和工艺的影响。

PI镀镍镀铜膜
生产工艺

  1. PI膜预处理:对PI膜进行表面清洁、粗糙化等处理,以提高镀层的附着力。

  2. 镀层沉积:采用电镀、化学镀或真空镀膜等方法,在PI膜表面沉积镍和铜层。这一步需要准确控制镀层的厚度和均匀性,以确保产品的性能和质量。

  3. 后处理:对镀层进行清洗、烘干等处理,以获得最终的产品。后处理步骤可能还包括对镀层进行进一步的加工和测试,以满足客户的特定需求。

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