PEN镀银膜

先进院科技PEN磁控溅射镀银膜是一种将银沉积到聚对苯二甲酸乙二酯（PolyethyleneNaphthalate，简称PEN）薄膜表面的技术。磁控溅射是一种物理气相沉积的方法，通过在真空腔室中施加磁场，激活金属靶材并将金属离子溅射到待处理表面上，从而形成所需的金属膜。而在此过程中，选择了银靶材用于溅射，因其具有良好的导电性和反射性，适用于许多应用领域，如光学显示器件和导电薄膜。  

产品特性

1. 高导电性：银镀层具有更佳的导电性能，使得PEN镀银膜在电子电器领域得到广泛应用，如作为导电膜、触摸屏电极等。

2. 优异的电磁屏蔽性：银镀层对电磁波具有显著的屏蔽作用，可防止电磁干扰，保护电子设备的正常运行。

3. 良好的耐热性：PEN基材本身具有优异的耐热性能，能够承受高温环境而不变形或损坏，确保镀银膜在高温条件下的稳定性。

4. 优异的耐腐蚀性：PEN镀银膜对多种化学物质具有良好的耐腐蚀性，能够在恶劣环境中保持稳定的性能。

5. 美观的外观：银镀层赋予PEN镀银膜银白色的外观，具有良好的装饰效果，适用于需要美观外观的场合。

生产工艺

1. 基材准备：选择高品质的PEN薄膜作为基材，进行清洗、干燥等预处理工作。

2. 镀银处理：采用物理或化学方法在PEN薄膜表面沉积银层。物理方法如真空蒸镀、磁控溅射等；化学方法如化学镀银等。具体方法的选择取决于产品的具体要求和生产成本等因素。

3. 后处理：对镀银后的PEN薄膜进行烘干、固化等后处理工作，确保银层附着牢固且表面光滑平整。

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