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随着第三代半导体材料如SiC(碳化硅)和GaN(氮化镓)的应用日益广泛,对封装互连材料的要求变得更加严格。传统的焊锡材料因其较低的工作温度限制和较差的热循环稳定性,逐渐被能够承受更高工作温度且具有良好可靠性的纳米银烧结技术所取代。其中,有压烧结银膏凭借其低温连接、高温服役的优势,成为了业界研究的重点之一。本文将探讨在烧结过程中如何控制温度和压力,以避免连接层强度不足的问题,并以先进院(深圳)科技有限公司开发的研铂牌YB1011有压烧结银膏为例进行说明。
烧结温度和压力的控制是有压烧结银膏应用中的关键技术。若烧结温度或压力不足,银膏可能未能充分烧结,导致连接层强度不足,导电性能下降。相反,如果烧结温度过高或压力过大,则可能损伤芯片,甚至破坏整个电路结构。因此,准确控制烧结温度和压力至关重要。
研铂牌YB1011有压烧结银膏是由先进院(深圳)科技有限公司开发的一款高性能互连材料,专为满足大功率模块封装需求设计。该产品采用了独特的配方和技术路线,确保在较低温度下实现高质量的大面积键合。通过施加适当的压力,可以进一步提高银颗粒之间的接触紧密度,从而获得更加致密和平整的连接层结构。此外,YB1011还具有良好的润湿性和较低的电阻率,适用于多种基板材料。
温度控制
烧结温度是影响银膏烧结质量的关键因素之一。温度过高可能导致芯片损坏,而温度过低则无法实现充分的冶金结合。因此,必须根据银膏的具体成分和推荐工艺参数来设定合适的烧结温度。例如,YB1011有压烧结银膏的烧结温度通常在一定的范围内,具体数值需根据实验确定。在实际操作中,需使用准确的温控设备,确保烧结温度的稳定性和准确性。
压力控制
压力的作用在于促进银颗粒之间的紧密接触和融合,从而提高连接层的强度和导电性能。然而,过大的压力也可能导致芯片损伤或连接层内部的孔洞和裂纹。因此,在设定烧结压力时,需根据银膏的特性、基板的材质以及芯片的尺寸来综合考虑。YB1011有压烧结银膏在烧结过程中需要施加适当的压力,通常通过精密的压力控制系统来实现。
选择合适的银颗粒配比
银颗粒的粒径和形状对烧结后接头的力学性能有显著影响。单一尺寸的纳米银颗粒可能因塑性差而导致应力集中和裂纹产生。因此,在制备焊膏时,应选择合适的银颗粒配比,如将纳米级和微米级银颗粒混合使用,以改善烧结层的塑性。
精细调节工艺条件
通过实验确定更优的烧结温度、时间和压力组合。在烧结过程中,需密切监控温度曲线和压力变化,确保工艺参数的稳定性和一致性。同时,还需考虑基材表面粗糙度等因素对接头质量的影响。
加强表面预处理
确保所有参与连接的表面干净无污染,并适当调整表面特性以利于良好粘附。这可以通过清洗、打磨、化学镀等方法来实现。
有压烧结银膏在封装互连领域具有广阔的应用前景,但其烧结过程中的温度和压力控制对连接层强度具有重要影响。通过准确控制烧结温度和压力,选择合适的银颗粒配比,精细调节工艺条件以及加强表面预处理,可以有效避免连接层强度不足的问题。先进院(深圳)科技有限公司开发的研铂牌YB1011有压烧结银膏在这一领域展现出了优异的性能,为封装互连材料的发展提供了新的选择。
以上数据仅供参考,具体性能可能因生产工艺和产品规格而有所差异。
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